兰大首页 English

材料制备与加工

超高真空多组元纳米膜层沉积系统(磁控溅射)

仪器主管:王琦 放置地点:格致楼4011

联系电话:15352021117 预约测试:

仪器介绍

仪器简介:

型号:JDP560

制造厂家:沈阳科学仪器股份有限公司

购置时间:2013

主要规格及技术指标

真空度10-6Pa

1000W直流电源

500W射频电源

室温到500衬底温度

主要功能及特色

能实现金属、半导体、绝缘材料溅射沉积

主要附件及配置

2台射频电源;1台直流电源

2英寸样品托

靶材3英寸

文章标注要求

计费信息

按机时计费