仪器简介

型号：非标

制造厂家：沈阳聚智真空厂

购置时间：2006年

主要规格及技术指标

该设备配有送样室及制样室，两边真空度可到10^-4pa，送样室有氩离子反溅，制样室有4个靶位，可溅射靶材2.5英寸，两个直流源，两个射频源，2个可升降靶

主要功能及特色

该设备实际是一台磁控溅射设备，物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

主要附件及配置

两个机械泵，两个涡轮分子泵，两个直流电源，两个射频电源，一个冷却循环机

文章标注要求

Magnetic ion composite sputtering equipment, available metal and non-metal targets.

计费信息

按机时收费。