仪器简介：

型号：Savannah S200

制造厂家：VEECO

购置时间：2023年

主要规格及技术指标

曝光工艺模式：满足深沟槽、微结构陈列等深孔、 通孔等镀膜，曝光工艺的深宽比不小于 2000:1

薄膜均匀性：在 8”硅片上沉积 Al2O3 <1%。

主要功能及特色

目前能提供沉积源：Al2O3、SiO2、HfO2、VOX等源

主要附件及配置

臭氧发生器，6路源钢瓶

文章标注要求

ALD Savannah system

计费信息

按测试机时计费，计费标准：仪器200元/小时（院内），400元/小时（院外）。适合于超薄膜（10nm及以下）沉积，每次材料费50元。

沉积要求：硅晶圆或玻璃，表面不含易掉渣粉末或易污染腔体挥发物质